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IXRF磁控離子濺射儀MSP-mini的特點(diǎn)

發(fā)布時(shí)間:2023-02-28 點(diǎn)擊量:551

IXRF磁控離子濺射儀MSP-mini的特點(diǎn)

IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini利用磁控電極在低電壓下對(duì)樣品濺射金屬靶材,為SEM樣品表面噴鍍金屬鍍層,方便電鏡觀(guān)察,而MSP-mini是一款體積小巧,操作簡(jiǎn)便,無(wú)需通入特殊氣體,使用時(shí)只需設(shè)置噴鍍時(shí)間即可。

主要特點(diǎn):
1. 陽(yáng)極磁控型靶材水平裝入:極低的放電電壓減弱樣品受到的例子損傷和熱損傷;
2. 浮動(dòng)樣品臺(tái)設(shè)計(jì):使電流不通過(guò)樣品,溫度上升很少,同時(shí)減弱離子碰撞引起的損傷;
3. 操作簡(jiǎn)便:通過(guò)定時(shí)器控制從真空排氣到啟動(dòng)放電電壓的整個(gè)過(guò)程。
應(yīng)用領(lǐng)域:
離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀(guān)測(cè)效率,另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳,實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

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一鍵自動(dòng)鍍膜。沒(méi)有麻煩的操作。高性?xún)r(jià)比機(jī)器。它是MSP-1S的弟弟。
使用小目標(biāo)(φ30mm)。實(shí)現(xiàn)低運(yùn)行成本。Au 靶作為標(biāo)準(zhǔn)包含在內(nèi)。展示其在桌面 SEM 預(yù)處理方面的能力。
可選的目標(biāo)Ag膜具有優(yōu)異的光澤度,便于透明材料表面的光學(xué)顯微鏡觀(guān)察。
概述
本設(shè)備是一種帶磁控靶的金屬鍍膜設(shè)備。當(dāng)用光學(xué)顯微鏡(Ag 靶)觀(guān)察透明材料的表面或用電子顯微鏡(Au/Ag 靶)在少量樣品上涂導(dǎo)電膜時(shí)使用。

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